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11.
Kai He Tsegaye TadesseTsega Xi Liu Jiantao Zai Xin‐Hao Li Xuejiao Liu Wenhao Li Nazakat Ali Xuefeng Qian 《Angewandte Chemie (Weinheim an der Bergstrasse, Germany)》2019,131(34):12029-12035
The modulation of electron density is an effective option for efficient alternative electrocatalysts. Here, p‐n junctions are constructed in 3D free‐standing FeNi‐LDH/CoP/carbon cloth (CC) electrode (LDH=layered double hydroxide). The positively charged FeNi‐LDH in the space‐charge region can significantly boost oxygen evolution reaction. Therefore, the j at 1.485 V (vs. RHE) of FeNi‐LDH/CoP/CC achieves ca. 10‐fold and ca. 100‐fold increases compared to those of FeNi‐LDH/CC and CoP/CC, respectively. Density functional theory calculation reveals OH? has a stronger trend to adsorb on the surface of FeNi‐LDH side in the p‐n junction compared to individual FeNi‐LDH further verifying the synergistic effect in the p‐n junction. Additionally, it represents excellent activity toward water splitting. The utilization of heterojunctions would open up an entirely new possibility to purposefully regulate the electronic structure of active sites and promote their catalytic activities. 相似文献
12.
对石英音叉增强型光声光谱(QEPAS)系统中常用的石英音叉进行了有限元模态计算,获得石英音叉前6阶振型与模态频率,认知了第4阶对称摆动振型为有效振动,利用单因素法分析了石英音叉的音臂长度l1、音臂宽度w1、音臂厚度t、音臂切角θ、音臂圆孔直径d及音臂圆孔高度h对低阶有效共振频率(Fre)的影响,敏感度依次为: l1> w1>d>θ>t>h,考虑实际设计情形,筛选出了l1,w1,d与h四个石英音叉设计变量,采用Box-Behnken实验设计方案与RSM(response surface methodology)方法,以Fre为函数目标,建立l1,w1,d与h的二次回归响应面模型,得到了参数之间的交互作用,利用Design-Expert软件对响应面模型进行设计参数反求,结果表明,在15 000 Hz≤Fre≤25 000 Hz计算区域内误差较小,基本满足QEPAS系统的计算需求,所提出的研究与设计方法具有一定通用性,可为QEPAS系统中石英音叉结构参数设计提供参考。 相似文献
13.
14.
15.
利用射影几何方法在小缺陷码中,NMDS码是链条件码;给出k维NμMDS(0μk-2)码满足链条件的一个充要条件与一些易判断的充分条件. 相似文献
16.
17.
网络环境下的物理实验教学模式 总被引:4,自引:2,他引:2
目前网络环境下的物理实验教学新模式主要有物理实验专题网站、实验教学网络管理、实验类网络课程及远程控制物理实验.本文简要介绍了各个模式的特点及实施方法. 相似文献
18.
19.
Bo Jin Xi Wang Jing Chen Feng Zhang Xinli Cheng Zhijun Chen 《Applied Surface Science》2006,252(16):5627-5631
The oxidation of SiGe film epitaxial grown on top of SOI wafers has been studied. These SiGe/SOI samples were oxidized at 700, 900, 1100 °C. Germanium atoms were rejected from SiGe film to SOI layer. A new Si1−xGex (x is minimal) layer formed at SiGe/Si interface. As the germanium atoms diffused, the new Si1−xGex (x is minimal) layer moved to Si/SiO2 interface. Propagation of threading dislocation in SiGe film to SOI substrate was hindered by the new SiGe/Si interface. Strain in SOI substrate transferred from SiGe film was released through dislocation nucleation and propagation inner. The relaxation of SiGe film could be described as: strain relaxed through strain equalization and transfer process between SiGe film and SOI substrates. Raman spectroscopy was used to characterize the strain of SiGe film. Microstructure of SiGe/SOI was observed by transmission electron microscope (TEM). 相似文献
20.